เป้าหมายการสปัตเตอร์ไททาเนียม pvd ที่มีความบริสุทธิ์สูง เป้าหมายโลหะที่กำหนดเอง

เป้าหมายการกระจายไทเทเนียม pvd ความบริสุทธิ์สูง เป้าหมายโลหะที่กําหนดเอง

เป้าหมายการกระจายสามารถแบ่งออกเป็นเป้าหมายหมุน เป้าหมายระนาบ เป้าหมายหลายเส้นโค้ง ตามหลักการทํางาน

มันสามารถแบ่งออกเป็นเป้าหมายโลหะประเภทไม่เหล็กบริสุทธิ์, Ti ทิตาเนียมบริสุทธิ์, นิเคิลบริสุทธิ์ Ni, โครเมียม Cr, นิโอเบียม Nb, อลูมิเนียม Al, โมลิบเดนัม Mo ตามวัสดุโลหะทุกชนิดสามารถใช้เป็นเป้าหมาย.เป้าหมายการพ่นที่เราสามารถให้: เป้าหมายสับสนธิ, ซิรคอนิโมอลูมิเนียม ZrAl, นิเคิลโครเมียม NiZr, ทิตาเนียมอลูมิเนียม TiAl, ทิตาเนียมนิเคิล TiNi, นิเคิลโครเมียม NiCr, ทองแดงไทเทเนียม TiCu เป็นต้นอัตราส่วนโลหะของเป้าหมายสกัดเป็นสกัดไทเทเนียม-อลูมิเนียมเป็นตัวอย่าง: ความสัมพันธ์มวล 50:50wt% ความสัมพันธ์อะตอม 80:20at%

ชื่อสินค้า:เป้าหมายการกระจาย titanium

ความบริสุทธิ์:990.5%, 99.95%, 99.98%, 99.995%

ขนาด:กว้าง 300*40mm กว้าง 300*25mm กว้าง 100*40mm กว้าง 99*40mm กว้าง 65*40mm ฯลฯ หรือเป็นภาพวาดของลูกค้า

วัสดุ

1.ทิตาเนียมบริสุทธิ์: GR1 GR2

2.สับสนธิไทเทเนียม: ไทเทเนียม Gr5, ไทเทเนียมอลูมิเนียม TiAl, ไทเทเนียมไนเคิล TiNi, ไทเทเนียมโครเมียม TiCr, ไทเทเนียมซิกอร์โคเนียม TiZr, ทองแดงไทเทเนียม TiCu เป็นต้น

3.วัสดุอื่น ๆ: เป้าหมายการพ่นซิกโอนิโอม, เป้าหมายการพ่นโครม, เป้าหมายการพ่นทองแดง, เป้าหมายการพ่นทองแดง เป็นต้น

การใช้งาน:การเคลือบตกแต่ง, การเคลือบเครื่องมือฮาร์ดแวร์, อะไหล่ครึ่งตัวนํา, จอจอแบน

ลักษณะ:ราคากลางที่แข่งขัน ความบริสุทธิ์สูง การปรับปรุงเมล็ดพันธุ์

(ขนาดเมล็ดเฉลี่ย < 20 μm),เกรดครึ่งตัวนํา

ภาพรายละเอียด:

การเคลือบแคลมแอก:วิธีการทําฟิล์มบนพื้นฐานภายใต้ความว่าง) สามารถตอบสนองความต้องการความแม่นยํานี้

ข้อดีของการเคลือบระบายความว่าง:1. กระบวนการนี้ไม่ผลิตน้ําเสียอุตสาหกรรม, ก๊าซเสีย, หรือซากขยะ, และมีข้อดีต่อสิ่งแวดล้อมที่ดี;ที่จะไม่ทําลายผลิตภัณฑ์ วัสดุและผลงานเดิม; 3. เนื่องจากความหนาของฟิล์มที่ผลิตคือระดับไมครอนนาโนเมตร และความหนาของฟิล์มเป็นแบบเดียวกัน มันจะไม่ทําลายล้างลักษณะและขนาดของผลิตภัณฑ์และความแม่นยําก็สูงมาก.

เกี่ยวกับบริษัทของเรา