เป้าหมายสปัตเตอร์ไททาเนียมความบริสุทธิ์สูงสำหรับเครื่องเคลือบสูญญากาศ PVD

เป้าหมายการกระจาย Titanium ความบริสุทธิ์สูงสําหรับเครื่องเคลือบ PVD

ครับ

เป้าหมายการพ่นไทเทเนียมความบริสุทธิ์สูง

ความต้องการพื้นฐานสําหรับเป้าหมายการกระจาย titanium:

โดยทั่วไปตัวชี้วัดต่อไปนี้จะพิจารณาเมื่อวัดว่าเป้าหมายการกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจายกระจาย

ความบริสุทธิ์: ความบริสุทธิ์มีอิทธิพลอย่างมากต่อผลงานของฟิล์มที่กระจายคุณสมบัติไฟฟ้าและแสงของฟิล์มที่กระจาย.

เนื้อหาของปนเปื้อน: ปนเปื้อนในปนเปื้อนเป้าหมาย และออกซิเจนและปืนน้ําในขุมขนเปื้อนเป็นแหล่งมลพิษหลักของฟิล์มฝังวัสดุเป้าหมายที่แตกต่างกันมีความต้องการที่แตกต่างกันสําหรับปริมาณของสารสกัด.

ความหนาแน่น: ความหนาแน่นของเป้าหมายจะไม่เพียงแต่จะส่งผลต่ออัตราการกระจาย แต่ยังส่งผลต่อคุณสมบัติไฟฟ้าและแสงของหนังเพื่อลด porosity ในเป้าหมายแข็งและปรับปรุงผลงานของหนัง sputtered, เป้าหมายมักต้องมีความหนาแน่นสูง

ขนาดของเมล็ดและการกระจายเมล็ด: สําหรับเป้าหมายเดียวกัน อัตราการกระจายของเป้าหมายเมล็ดละเอียดเร็วกว่าเป้าหมายเมล็ดหยาบขนาดของอนุภาคที่แตกต่างกันน้อยขึ้น (การกระจายแบบเรียบร้อย), ความหนาของฟิล์มฝังพ่นเป้าหมายจะเท่ากันมากขึ้น

ภาพรายละเอียด:

การบรรจุ:เป้าหมายไทเทเนียมแต่ละชิ้นถูกบรรจุในถุงพลาสติกระบายความร้อน ที่ถูกแต่งขึ้นเอง เติมเต็มด้วยฟิล์มฟอง และผ้าหอมเพชรในตอนกลาง และกระเป๋าพลาสติกที่ไม่ใช้ยาสูบภายนอกปฏิบัติตามมาตรฐานการขนส่งระหว่างประเทศเพื่อให้แน่ใจว่าสินค้าปลอดภัยในการขนส่ง

เกี่ยวกับบริษัทของเรา